1 熱障涂層概述
1．1 熱障涂層原理
1．1．1 無(wú)機(jī)涂層
1．1．2 熱障涂層
1．2 熱障涂層結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
1．2．1 雙層結(jié)構(gòu)涂層
1．2．2 多層結(jié)構(gòu)涂層
1．2．3 功能梯度涂層
1．2．4 厚涂層
1．3 熱障涂層陶瓷層材料的性能要求
1．3．1 高熔點(diǎn)
1．3．2 良好的高溫相穩(wěn)定性
1．3．3 低熱導(dǎo)率
1．3．4 高線膨脹系數(shù)
1．3．5 與TGO層之間良好的化學(xué)穩(wěn)定性和黏結(jié)性
1．3．6 良好的耐腐蝕性
1．3．7 低彈性模量以及較高的硬度和韌性
1．3．8 低燒結(jié)率
1．4 熱障涂層的失效機(jī)理
1．4．1 TGO的生長(zhǎng)
1．4．2 陶瓷層的燒結(jié)作用
1．4．3 陶瓷層中的相變
參考文獻(xiàn)


2 熱障涂層材料的合成
2．1 概述
2．1．1 粉末密度的表征方法
2．1．2 粉末的制備方法
2．2 多元陶瓷粉末的制備方法
2．2．1 液相法
2．2．2 固相法
2．2．3 感應(yīng)等離子體合成法
2．3 團(tuán)聚體粉末的制備方法
2．3．1 球磨法
2．3．2 噴霧干燥法
參考文獻(xiàn)


3 熱障涂層的制備
3．1 熱噴涂
3．1．1 火焰噴涂
3．1．2 爆炸噴涂
3．2 等離子噴涂
3．2．1 等離子嘖涂原理和設(shè)備
3．2．2 PS法涂層的形成過(guò)程
3．3 電子束-物理氣相沉積法（EB-PVD法）
3．3．1 電子束-物理氣相沉積原理和設(shè)備
3．3．2 葉片EB-PVD涂層的生產(chǎn)過(guò)程
3．3．3 熱障涂層的其他制備方法
參考文獻(xiàn)


4 陶瓷粉末及涂層微觀組織結(jié)構(gòu)分析方法
4．1 X射線衍射技術(shù)
4．1．1 X射線衍射技術(shù)簡(jiǎn)介
4．1．2 X射線粉末衍射技術(shù)
4．1．3 X射線雙晶衍射技術(shù)
4．1．4 X射線三晶衍射技術(shù)
4．2 掃描電子顯微鏡
4．2．1 掃描電子顯微鏡的工作原理
4．2．2 掃描電鏡的儀器結(jié)構(gòu)
4．2．3 配套設(shè)備及其用途
4．3 透射電子顯微鏡
4．3．1 電子的波長(zhǎng)與加速電壓
4．3．2 透射電鏡的構(gòu)造
4．4 拉曼光譜分析
4．4．1 基本原理
4．4．2 基本構(gòu)成及其工作原理
4．4．3 拉曼光譜的特點(diǎn)
4．4．4 拉曼光譜的應(yīng)用
4．5 X射線光電子能譜分析
4．5．1 方法原理
4．5．2 儀器結(jié)構(gòu)和工作原理
4．6 紅外光譜儀
4．6．1 基本原理
4．6．2 紅外光譜儀的特點(diǎn)及應(yīng)用
4．7 彈性系數(shù)
4．8 差熱分析
4．8．1 差熱分析的基本原理
4．8．2 差熱曲線的峰面積及過(guò)程熱效應(yīng)
4．8．3 差熱分析的影響因素
4．9 陶瓷涂層的熱物理性能的測(cè)量
4．9．1 陶瓷涂層的熱物理性能的理論基礎(chǔ)
4．9．2 熱擴(kuò)散系數(shù)的測(cè)量
4．10 密度測(cè)定及孔隙率測(cè)定
4．11 涂層斷裂韌性的測(cè)定
4．11．1 臨界應(yīng)力強(qiáng)度因子KIC
4．11．2 臨界裂紋擴(kuò)展能量釋放率GIC
4．11．3 裂紋密度?
4．12 涂層隔熱性能測(cè)試
4．13 熱震試驗(yàn)
4．13．1 熱應(yīng)力斷裂理論
4．13．2 熱沖擊損傷理論
4．14 抗高溫氧化性
4．15 耐磨損性
4．16 涂層結(jié)合強(qiáng)度
4．16．1 黏結(jié)拉伸法
4．16．2 界面壓入法
4．16．3 斷裂力學(xué)法
4．16．4 動(dòng)態(tài)結(jié)合強(qiáng)度測(cè)試法
參考文獻(xiàn)


5 傳統(tǒng)熱障涂層
5．1 ZrO2的物理化學(xué)性質(zhì)
5．2 ZrO2的晶體結(jié)構(gòu)及相變特點(diǎn)
5．2．1 ZrO2的晶體結(jié)構(gòu)
5．2．2 ZrO2的相變特點(diǎn)
5．2．3 ZrO2的相變穩(wěn)定
5．3 氧化鋯陶瓷的增韌機(jī)制
5．3．1 應(yīng)力誘發(fā)相變?cè)鲰g機(jī)理
5．3．2 表面強(qiáng)化增韌
5．3．3 微裂紋的增韌機(jī)理
5．3．4 彌散增韌機(jī)理
5．4 ZrO2粉體的制備
5．4．1 化學(xué)共沉淀法
5．4．2 水解沉淀法
5．4．3 溶膠-凝膠法
5．4．4 水熱法
5．5 氧化鋯陶瓷的成型方法
5．5．1 干法成型
5．5．2 濕法成型
5．6 傳統(tǒng)的熱障涂層
5．6．1 經(jīng)典的8YSZ型熱障涂層
5．6．2 8YSZ材料的摻雜修飾
5．7 新型熱障涂層材料
5．7．1 稀土鋯酸鹽
5．7．2 缺陷型螢石結(jié)構(gòu)
5．7．3 鈣鈦礦
5．7．4 稀土六鋁酸鹽
5．7．5 釔鋁石榴石（YAG）
5．7．6 釔酸鹽
5．7．7 YSH
5．7．8 獨(dú)居石
5．7．9 金屬玻璃復(fù)合材料
5．8 其他熱障涂層材料
參考文獻(xiàn)


6 納米結(jié)構(gòu)熱障涂層
6．1 納米材料及特點(diǎn)
6．1．1 納米材料的定義
6．1．2 納米材料的特點(diǎn)
6．2 納米材料制備方法
6．2．1 共沉淀法
6．2．2 溶膠-凝膠法
6．2．3 水熱合成法
6．2．4 溶劑熱法
6．3 納米熱障涂層材料
6．3．1 納米熱障涂層材料發(fā)展現(xiàn)狀
6．3．2 8YSZ納米熱障涂層材料研究現(xiàn)狀
6．4 La2O3改性8YSZ納米涂層材料的制備和表征
6．4．1 樣品合成工藝
6．4．2 XRD以及相穩(wěn)定性分析
6．4．3 熱重/差熱（TG/DSC）分析
6．4．4 SEM、TEM、HRTEM分析
6．4．5 FT-IR分析
6．4．6 晶體生長(zhǎng)活化能的分析
6．5 Ce02改性8YSZ納米涂層材料的制備和表征
6．5．1 樣品合成工藝
6．5．2 XRD分析
6．5．3 TG/DSC分析
6．5．4 晶格常數(shù)和比表面積分析
6．5．5 FT-IR分析
6．5．6 Raman光譜分析
6．5．7 TEM和HRTEM分析
6．5．8 晶體生長(zhǎng)活化能的研究
6．6 La2（Zr0．7Cen3）2O7的材料粉體的制備和表征
6．6．1 樣品合成工藝
6．6．2 XRD以及電子衍射能譜分析（EDS）分析
6．6．3 拉曼光譜分析
6．6．4 熱重/差熱分析
6．6．5 晶格常數(shù)分析
6．6．6 傅里葉紅外光譜（FT-IR）分析
6．6．7 致密度與體積收縮分析
6．6．8 LZ7C3的微觀組織形貌
6．6．9 LZ7C3、LZ以及8YSZ材料的力學(xué)性能研究
6．6．10 LZ7C3材料的熱膨脹系數(shù)
6．6．11 LZ7C3材料的熱導(dǎo)率
參考文獻(xiàn)