本書是微電子技術(shù)領(lǐng)域的基礎(chǔ)教程。全書涵蓋了量子力學(xué)、 固體物理、 半導(dǎo)體材料物理及半導(dǎo)體器件物理等內(nèi)容, 分成三部分, 共15章。*部分為半導(dǎo)體材料屬性, 主要討論固體晶格結(jié)構(gòu)、 量子力學(xué)、 固體量子理論、 平衡半導(dǎo)體、 輸運(yùn)現(xiàn)象、 半導(dǎo)體中的非平衡過剩載流子; 第二部分為半導(dǎo)體器件基礎(chǔ), 主要討論pn結(jié)、 pn結(jié)二極管、 金屬半導(dǎo)體和半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)、 金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管、 雙極晶體管、 結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)晶體管; 第三部分為專用半導(dǎo)體器件, 主要介紹光器件、 半導(dǎo)體微波器件和功率器件等。書中既講述了半導(dǎo)體基礎(chǔ)知識(shí), 也分析討論了小尺寸器件物理問題, 具有一定的深度和廣度。另外, 全書各章難點(diǎn)之后均列有例題、 自測(cè)題, 每章末尾均安排有復(fù)習(xí)要點(diǎn)、 重要術(shù)語解釋及知識(shí)點(diǎn)。全書各章末尾列有習(xí)題和參考文獻(xiàn), 書后附有部分習(xí)題答案。
每章開篇給出中文說明,適合雙語教學(xué)。
前 言
宗旨與目標(biāo)
出版本書第四版的目的在于將有關(guān)半導(dǎo)體器件的特性、工作原理及其局限性的基礎(chǔ)知識(shí)介紹給讀者。要想更好地理解這些基礎(chǔ)知識(shí),就必須對(duì)半導(dǎo)體材料物理知識(shí)進(jìn)行全面的了解。本書有意將量子力學(xué)、固體量子理論、半導(dǎo)體材料物理和半導(dǎo)體器件物理綜合在一起,因?yàn)樗羞@些理論對(duì)了解當(dāng)今半導(dǎo)體器件的工作原理及其未來的發(fā)展是非常重要的。
在這本教科書中所包含的物理知識(shí)遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過了許多半導(dǎo)體器件入門書籍中所涵蓋的內(nèi)容。盡管本書覆蓋面很廣,但作者堅(jiān)信:一旦透徹理解了這些入門知識(shí)和材料物理知識(shí),那么對(duì)半導(dǎo)體器件物理的理解就會(huì)水到渠成,而且會(huì)理解得更快,學(xué)習(xí)效率更高。本書對(duì)基礎(chǔ)物理知識(shí)的不惜篇幅,將有助于讀者更好地理解甚至可能開發(fā)出新型的半導(dǎo)體器件。
既然本書的目的在于為讀者奉獻(xiàn)一部有關(guān)半導(dǎo)體器件理論的入門書籍,因此許多深?yuàn)W的理論并未涉及,同時(shí)也未對(duì)半導(dǎo)體的制造工藝做仔細(xì)描述。雖然本書對(duì)諸如擴(kuò)散和離子注入等制造工藝有所涉獵并進(jìn)行了一般性討論,但僅局限于那些對(duì)器件特性有直接影響的工藝和場(chǎng)合。
預(yù)備知識(shí)
由于本書針對(duì)的是電氣工程領(lǐng)域大學(xué)三年級(jí)和大學(xué)大四級(jí)的學(xué)生,因此假設(shè)讀者已經(jīng)掌握了微分方程、大學(xué)物理和電磁學(xué)的基礎(chǔ)知識(shí)。當(dāng)然,了解現(xiàn)代物理知識(shí)更好,但這并不必需。預(yù)先修完電子線路基礎(chǔ)課程對(duì)閱讀本書會(huì)更有幫助。
章節(jié)安排
本書分為三部分:第一部分介紹量子力學(xué)初步知識(shí)和半導(dǎo)體材料物理;第二部分介紹半導(dǎo)體器件物理的基本知識(shí);第三部分介紹專用半導(dǎo)體器件,包括光器件、微波器件和功率器件。
第一部分包括第1章至第6章。第1章先從固體晶格結(jié)構(gòu)開始,然后過渡到理想單晶半導(dǎo)體材料。第2章和第3章介紹量子力學(xué)和固體量子理論,這些都是必須掌握的基礎(chǔ)物理知識(shí)。第4章到第6章覆蓋了半導(dǎo)體材料物理知識(shí)。其中,第4章討論熱平衡半導(dǎo)體物理,第5章討論半導(dǎo)體內(nèi)部的載流子輸運(yùn)現(xiàn)象。非平衡過剩載流子是第6章的主要內(nèi)容,理解半導(dǎo)體中的過剩載流子行為對(duì)于理解器件物理至關(guān)重要。
第二部分包括第7章到第13章。第7章主要討論pn結(jié)電子學(xué);第8章討論pn結(jié)電流-電壓特性;第9章討論整流及非整流金屬半導(dǎo)體結(jié)和半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié);第10章和第11章闡述MOS場(chǎng)效應(yīng)晶體管理論;第12章探討雙極型晶體管;第13章闡述結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管。在詳盡介紹pn結(jié)理論后,關(guān)于這三種基本晶體管類型的章節(jié),讀者可不必按順序閱讀,因?yàn)檫@些章節(jié)彼此之間是相互獨(dú)立的。
第三部分包括第14章和第15章。第14章介紹光器件,如太陽能電池和發(fā)光二極管;第15章介紹半導(dǎo)體微波器件和半導(dǎo)體功率器件。
本書末尾是8個(gè)附錄。附錄A是符號(hào)列表,以幫助讀者了解各種符號(hào)及其含義。附錄B包含單位轉(zhuǎn)換表與常數(shù)表。附錄H 給出了部分習(xí)題的答案,有助于學(xué)生檢查自身的學(xué)習(xí)情況。
使用說明
本書可作為本科生第三學(xué)期或第四學(xué)期一個(gè)學(xué)期的教材。和許多課本一樣,本書的內(nèi)容不可能在一個(gè)學(xué)期內(nèi)全部講授完。這就給授課老師提供了一定的自由空間,授課老師可根據(jù)教學(xué)目的對(duì)教材內(nèi)容進(jìn)行取舍。下文給出了兩種可供選擇的安排,但本書不是百科全書。對(duì)于可以略過而又不會(huì)影響全書連貫性的章節(jié),我們?cè)谀夸浐蛯?duì)應(yīng)章節(jié)中用*號(hào)予以標(biāo)記。這些章節(jié)盡管在半導(dǎo)體器件物理的發(fā)展中很重要,但可以推遲講授。新墨西哥大學(xué)電子工程專業(yè)大三學(xué)生的一門課程廣泛使用了本書中的材料。建議用略小于半個(gè)學(xué)期的時(shí)間學(xué)習(xí)前六章;剩余的時(shí)間用于學(xué)習(xí)pn結(jié)、金屬-氧化物-半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管和雙極型晶體管。其他的一些主題可考慮在學(xué)期末學(xué)習(xí)。
盡管MOS晶體管先于雙極型晶體管或結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)晶體管闡述,但描述三種基本晶體管類型之一的各個(gè)章節(jié)都是彼此獨(dú)立的,任何一種類型都可以先講。
注意事項(xiàng)
本書引入了有關(guān)半導(dǎo)體材料和器件物理等理論知識(shí)。雖然許多電子工程系的學(xué)生更樂于制作電子電路和計(jì)算機(jī)編程,而不是去學(xué)習(xí)有關(guān)半導(dǎo)體器件的理論,但是本書的內(nèi)容對(duì)于理解諸如微處理器等電子器件的局限性是至關(guān)重要的。
數(shù)學(xué)的應(yīng)用貫穿全書,這看起來很枯燥,但最后的結(jié)論是其他手段無法獲得。盡管有些描述工藝的數(shù)學(xué)模型看起來很抽象,但它們描述和預(yù)言物理過程方向的能力已完全經(jīng)受住了時(shí)間的考驗(yàn)。
作者鼓勵(lì)讀者經(jīng)常研讀每一章的開始部分,以便深刻領(lǐng)會(huì)每章或每個(gè)主題的目的。這種不斷的復(fù)習(xí)對(duì)學(xué)習(xí)前五章尤為重要,因?yàn)樗鼈冎v述的是基礎(chǔ)物理知識(shí)。
還應(yīng)注意的是,盡管有些章節(jié)可以略過且不會(huì)影響連貫性,但有些教師還是會(huì)選擇這些章節(jié)。因此,標(biāo)*號(hào)的章節(jié)并不意味著不重要。
有些問題可能到課程結(jié)束時(shí)也得不到解答,理解這一點(diǎn)也很重要。雖然作者不喜歡它可以這樣講之類的說法,但書中有些概念的推導(dǎo)確實(shí)超出了本書的范圍。本書對(duì)這一科目?jī)H具導(dǎo)論性質(zhì)。對(duì)那些修完課程后還沒有解決的問題,我們鼓勵(lì)讀者記下這些問題,或許在后續(xù)課程中這些問題就能得到解答。
教學(xué)順序
對(duì)于教學(xué)順序,每位教師都有自己的選擇,但通常有兩種方案。第一種方案稱為MOSFET方案,是在講授雙極型晶體管之前講授MOS晶體管。讀者會(huì)注意到本書中的MOSFET內(nèi)容放到了pn 結(jié)二極管之后的第10章和第11章。
第二種方案稱為雙極型方案,也稱為傳統(tǒng)方案,是在討論pn結(jié)二極管后立即介紹雙極型晶體管。由于MOSFET 留在學(xué)期末講授,因此到時(shí)可能沒有足夠的時(shí)間來講授這一重要主題。
遺憾的是,由于時(shí)間限制,將每一章中的所有內(nèi)容在一個(gè)學(xué)期內(nèi)都講完是不可能的。余下的內(nèi)容可以留到下一個(gè)學(xué)期講授或留給讀者自學(xué)。
MOSFET 方案
第1章晶格結(jié)構(gòu)
第2章、第3章量子力學(xué)和固體物理選講
第4章半導(dǎo)體物理
第5章輸運(yùn)現(xiàn)象
第6章非平衡過剩載流子選講
第7章pn結(jié)
第10章、第11章MOS晶體管
第8章pn結(jié)二極管
第9章肖特基二極管簡(jiǎn)介
第12章雙極型晶體管,其他選講內(nèi)容
雙極型方案
第1章晶格結(jié)構(gòu)
第2章、第3章量子力學(xué)和固體物理選講
第4章半導(dǎo)體物理
第5章輸運(yùn)現(xiàn)象
第6章非平衡態(tài)特性選講
第7章、第8章pn結(jié)和pn結(jié)二極管
第9章肖特基二極管簡(jiǎn)介
第12章雙極型晶體管
第10章、第11章MOS晶體管,其他選講內(nèi)容
第四版新內(nèi)容
排列順序:關(guān)于MOSFET的兩章移到了雙極型晶體管一章的前面。這一改變強(qiáng)調(diào)了MOS晶體管的重要性。
半導(dǎo)體微波器件:第15章中添加了一小節(jié)關(guān)于三種專用半導(dǎo)體微波器件的內(nèi)容。
新附錄:添加了關(guān)于有效質(zhì)量概念的附錄F。教材的許多計(jì)算中使用了兩個(gè)有效質(zhì)量。該附錄給出了每種有效質(zhì)量的理論知識(shí),并討論了何時(shí)在特定計(jì)算中使用哪一種有效質(zhì)量。
預(yù)習(xí)小節(jié):每章以簡(jiǎn)介開始,然后以項(xiàng)目列表的形式給出預(yù)習(xí)內(nèi)容。每個(gè)預(yù)習(xí)項(xiàng)均給出了該章的一個(gè)特殊目標(biāo)。
練習(xí)題:添加了超過100道練習(xí)題,每道例題后面均提供一道練習(xí)題。練習(xí)題類似于例題,以便讀者即時(shí)測(cè)試對(duì)剛講內(nèi)容的理解程度。每道練習(xí)題均提供有答案。
測(cè)試?yán)斫忸}:每章主要小節(jié)末尾添加了約40%的新測(cè)試?yán)斫忸}。通常,這些練習(xí)題比每個(gè)例題后的練習(xí)題更全面。這些習(xí)題將有助于讀者在學(xué)習(xí)新內(nèi)容前理解所學(xué)內(nèi)容。
章末習(xí)題:添加了330多道章尾習(xí)題,即這一版中有約48%的章末習(xí)題是全新的。
第四版特色
數(shù)學(xué)知識(shí)更為嚴(yán)密:保留了清晰理解半導(dǎo)體材料和器件物理基本數(shù)學(xué)知識(shí)的嚴(yán)密性。
例題:書中列舉了大量的例子來強(qiáng)化涉及的理論概念,這種做法貫穿全書。這些例子覆蓋了所有分析和設(shè)計(jì)的細(xì)節(jié),因此讀者不必自行補(bǔ)充其忽略的步驟。
小結(jié):每一章的末尾提供了小結(jié)部分,它總結(jié)了該章得出的結(jié)論并復(fù)習(xí)所描述的基本概念。
重要術(shù)語解釋:每章的小結(jié)之后列出了重要術(shù)語解釋,這部分定義并總結(jié)了該章所討論的重要術(shù)語。
知識(shí)點(diǎn):指出了學(xué)習(xí)該章應(yīng)該達(dá)到的目的及讀者應(yīng)該獲得的能力。在轉(zhuǎn)到后續(xù)章節(jié)前,這些知識(shí)可以用來幫助評(píng)估學(xué)習(xí)的進(jìn)展。
復(fù)習(xí)題:每章末有一系列復(fù)習(xí)題,可用于自測(cè),以讓讀者了解自己對(duì)該章概念的掌握程度。
章末習(xí)題:按照每章中專題出現(xiàn)的順序,給出了大量的習(xí)題。
小結(jié)和復(fù)習(xí)題:小結(jié)和復(fù)習(xí)節(jié)中的一些習(xí)題是開放式的設(shè)計(jì)習(xí)題,在多數(shù)章的末尾給出。
參考文獻(xiàn):每章后都附有參考文獻(xiàn),其中那些難度高于本書的參考書用星號(hào)標(biāo)明。
部分習(xí)題答案:最后的附錄給出了部分習(xí)題的答案。了解答案會(huì)有助于解題。
聯(lián)機(jī)資源
本書的配套網(wǎng)站為www.mhhe.com/neamen。網(wǎng)站上包含有適用于教師的習(xí)題解答手冊(cè)和圖像庫。教師也可以訪問這一版本的完整聯(lián)機(jī)解答手冊(cè)組織系統(tǒng),以生成試題并布置作業(yè)、生成定制內(nèi)容、編輯提供的習(xí)題和解答。
致謝
幾年來,我的許多學(xué)生幫助我改進(jìn)了本書的第四版,當(dāng)然也包括前幾版。在此,對(duì)他們的工作表示衷心的感謝,感謝他們的熱情與建設(shè)性的批評(píng)。
感謝McGraw-Hill公司的許多員工,感謝他們的大力支持。特別要感謝策劃編輯Peter Massart 和責(zé)任編輯Lora Neyens,感謝他們的鼓勵(lì)、支持和對(duì)細(xì)節(jié)的關(guān)注。還要感謝項(xiàng)目經(jīng)理們?cè)诒緯霭娴淖詈箅A段提供的指導(dǎo)。
感謝那些審讀過本書前三版手稿并提出過建設(shè)性意見的所有人員,還要感謝那樣仔細(xì)校對(duì)新習(xí)題解答的人員。最后,感謝本書新版本出版前審閱過本書的人員,他們的貢獻(xiàn)和建議對(duì)于提升本書很有價(jià)值。
第四版的審閱人員
特別感謝如下審閱人員對(duì)本書第四版提出的建設(shè)性意見與建議:
Sandra Selmic,路易斯安那工學(xué)院
Terence Brown,密歇根州立大學(xué)
Timothy Wilson,俄克拉荷馬州立大學(xué)
Lili He,圣何塞州立大學(xué)
Michael Stroscio,伊利諾伊-芝加哥大學(xué)
Andrei Sazonov,滑鐵盧大學(xué)
緒論 半導(dǎo)體和集成電路
我們經(jīng)常聽說我們生活在信息時(shí)代。譬如,我們可以通過互聯(lián)網(wǎng)或衛(wèi)星通信系統(tǒng)從千里之外獲得大量信息,而正是基于數(shù)字與模擬電子系統(tǒng)的信息技術(shù)和晶體管與集成電路(IC)的發(fā)展使之成為可能。IC產(chǎn)品已滲透到我們?nèi)粘I畹拿恳粋(gè)方面,包括CD播放器、傳真機(jī)、零售店的激光掃描儀和移動(dòng)電話在內(nèi)的電子設(shè)備,均要使用IC。IC技術(shù)最明顯的例子之一是數(shù)字計(jì)算機(jī),與幾
美國(guó)新墨西哥大學(xué)電氣與計(jì)算機(jī)工程系教授,于新墨西哥大學(xué)獲博士學(xué)位后,成為Hanscom空軍基地固態(tài)科學(xué)實(shí)驗(yàn)室電子工程師。1976年加入新墨西哥大學(xué)電氣與計(jì)算機(jī)工程系,從事半導(dǎo)體物理與器件課程和電路課程的教學(xué)工作。目前仍為該系的返聘教員。出版過Microelectronics Circuit Analysis and Design, Fourth Edition和An Introduction to Semiconductor Devices兩本教材。
第一部分 半導(dǎo)體材料屬性
第?1?章 固體晶格結(jié)構(gòu)1
1.0 預(yù)習(xí)1
1.1 半導(dǎo)體材料1
1.2 固體類型2
1.3 空間晶格3
1.3.1 原胞和晶胞3
1.3.2 基本的晶體結(jié)構(gòu)4
1.3.3 晶面和密勒指數(shù)6
1.3.4 晶向9
1.4 金剛石結(jié)構(gòu)10
1.5 原子價(jià)鍵12
*1.6 固體中的缺陷和雜質(zhì)14
1.6.1 固體中的缺陷14
1.6.2 固體中的雜質(zhì)16
*1.7 半導(dǎo)體材料的生長(zhǎng)17
1.7.1 在熔融體中生長(zhǎng)17
1.7.2 外延生長(zhǎng)19
1.8 小結(jié)20
重要術(shù)語解釋20
知識(shí)點(diǎn)21
復(fù)習(xí)題21
習(xí)題21
參考文獻(xiàn)24
第?2?章 量子力學(xué)初步25
2.0 預(yù)習(xí)25
2.1 量子力學(xué)的基本原理25
2.1.1 能量量子化26
2.1.2 波粒二相性27
2.1.3 不確定原理30
2.2 薛定諤波動(dòng)方程31
2.2.1 波動(dòng)方程31
2.2.2 波函數(shù)的物理意義32
2.2.3 邊界條件33
2.3 薛定諤波動(dòng)方程的應(yīng)用34
2.3.1 自由空間中的電子35
2.3.2 無限深勢(shì)阱36
2.3.3 階躍勢(shì)函數(shù)39
2.3.4 勢(shì)壘和隧道效應(yīng)44
2.4 原子波動(dòng)理論的延伸46
2.4.1 單電子原子46
2.4.2 周期表50
2.5 小結(jié)51
重要術(shù)語解釋51
知識(shí)點(diǎn)52
復(fù)習(xí)題52
習(xí)題52
參考文獻(xiàn)57
第?3?章 固體量子理論初步58
3.0 預(yù)習(xí)58
3.1 允帶與禁帶58
3.1.1 能帶的形成59
3.1.2 克龍尼克-潘納模型63
3.1.3 k 空間能帶圖67
3.2 固體中電的傳導(dǎo)72
3.2.1 能帶和鍵模型72
3.2.2 漂移電流74
3.2.3 電子的有效質(zhì)量75
3.2.4 空穴的概念78
3.2.5 金屬、絕緣體和半導(dǎo)體80
3.3 三維擴(kuò)展83
3.3.1 硅和砷化鎵的 k 空間能帶圖83
3.3.2 有效質(zhì)量的補(bǔ)充概念85
3.4 狀態(tài)密度函數(shù)85
3.4.1 數(shù)學(xué)推導(dǎo)85
3.4.2 擴(kuò)展到半導(dǎo)體88
3.5 統(tǒng)計(jì)力學(xué)91
3.5.1 統(tǒng)計(jì)規(guī)律91
3.5.2 費(fèi)米-狄拉克概率函數(shù)91
3.5.3 分布函數(shù)和費(fèi)米能級(jí)93
3.6 小結(jié)98
重要術(shù)語解釋98
知識(shí)點(diǎn)99
復(fù)習(xí)題99
習(xí)題100
參考文獻(xiàn)104
第 4 章 平衡半導(dǎo)體106
4.0 預(yù)習(xí)106
4.1 半導(dǎo)體中的載流子106
4.1.1 電子和空穴的平衡分布107
4.1.2 n0方程和p0方程109
4.1.3 本征載流子濃度113
4.1.4 本征費(fèi)米能級(jí)位置116
4.2 摻雜原子與能級(jí)118
4.2.1 定性描述118
4.2.2 電離能120
4.2.3 III-V族半導(dǎo)體122
4.3 非本征半導(dǎo)體123
4.3.1 電子和空穴的平衡狀態(tài)分布123
4.3.2 n0和p0的乘積127
*4.3.3 費(fèi)米-狄拉克積分128
4.3.4 簡(jiǎn)并與非簡(jiǎn)并半導(dǎo)體130
4.4 施主和受主的統(tǒng)計(jì)學(xué)分布131
4.4.1 概率函數(shù)131
4.4.2 完全電離與束縛態(tài)132
4.5 電中性狀態(tài)135
4.5.1 補(bǔ)償半導(dǎo)體135
4.5.2 平衡電子和空穴濃度136
4.6 費(fèi)米能級(jí)的位置141
4.6.1 數(shù)學(xué)推導(dǎo)142
4.6.2 EF隨摻雜濃度和溫度的變化144
4.6.3 費(fèi)米能級(jí)的應(yīng)用145
4.7 小結(jié)147
重要術(shù)語解釋148
知識(shí)點(diǎn)148
復(fù)習(xí)題149
習(xí)題149
參考文獻(xiàn)154
第 5 章 載流子輸運(yùn)現(xiàn)象156
5.0 預(yù)習(xí)156
5.1 載流子的漂移運(yùn)動(dòng)156
5.1.1 漂移電流密度156
5.1.2 遷移率159
5.1.3 電導(dǎo)率164
5.1.4 飽和速度169
5.2 載流子擴(kuò)散172
5.2.1 擴(kuò)散電流密度172
5.2.2 總電流密度175
5.3 雜質(zhì)梯度分布176
5.3.1 感生電場(chǎng)176
5.3.2 愛因斯坦關(guān)系178
*5.4 霍爾效應(yīng)180
5.5 小結(jié)183
重要術(shù)語解釋183
知識(shí)點(diǎn)184
復(fù)習(xí)題184
習(xí)題184
參考文獻(xiàn)191
第 6 章 半導(dǎo)體中的非平衡過剩載流子192
6.0 預(yù)習(xí)192
6.1 載流子的產(chǎn)生與復(fù)合193
6.1.1 平衡態(tài)半導(dǎo)體193
6.1.2 過剩載流子的產(chǎn)生與復(fù)合194
6.2 過剩載流子的性質(zhì)198
6.2.1 連續(xù)性方程198
6.2.2 與時(shí)間有關(guān)的擴(kuò)散方程199
6.3 雙極輸運(yùn)201
6.3.1 雙極輸運(yùn)方程的推導(dǎo)201
6.3.2 摻雜及小注入的約束條件203
6.3.3 雙極輸運(yùn)方程的應(yīng)用206
6.3.4 介電弛豫時(shí)間常數(shù)214
*6.3.5 海恩斯-肖克萊實(shí)驗(yàn)216
6.4 準(zhǔn)費(fèi)米能級(jí)219
*6.5 過剩載流子的壽命221
6.5.1 肖克萊-里德-霍爾復(fù)合理論221
6.5.2 非本征摻雜和小注入的約束
條件225
*6.6 表面效應(yīng)227
6.6.1 表面態(tài)227
6.6.2 表面復(fù)合速度229
6.7 小結(jié)231
重要術(shù)語解釋231
知識(shí)點(diǎn)232
復(fù)習(xí)題233
習(xí)題233
參考文獻(xiàn)240
第二部分 半導(dǎo)體器件基礎(chǔ)
第 7 章 pn結(jié)241
7.0 預(yù)習(xí)241
7.1 pn結(jié)的基本結(jié)構(gòu)241
7.2 零偏243
7.2.1 內(nèi)建電勢(shì)差243
7.2.2 電場(chǎng)強(qiáng)度246
7.2.3 空間電荷區(qū)寬度249
7.3 反偏251
7.3.1 空間電荷區(qū)寬度與電場(chǎng)251
7.3.2 勢(shì)壘電容(結(jié)電容)254
7.3.3 單邊突變結(jié)256
7.4 結(jié)擊穿258
*7.5 非均勻摻雜pn結(jié)262
7.5.1 線性緩變結(jié)263
7.5.2 超突變結(jié)265
7.6 小結(jié)267
重要術(shù)語解釋268
知識(shí)點(diǎn)268
復(fù)習(xí)題269
習(xí)題269
參考文獻(xiàn)275
第 8 章 pn結(jié)二極管276
8.0 預(yù)習(xí)276
8.1 pn結(jié)電流276
8.1.1 pn結(jié)內(nèi)電荷流動(dòng)的定性描述277
8.1.2 理想的電流-電壓關(guān)系278
8.1.3 邊界條件279
8.1.4 少數(shù)載流子分布283
8.1.5 理想pn結(jié)電流286
8.1.6 物理學(xué)小結(jié)290
8.1.7 溫度效應(yīng)292
8.1.8 短二極管293
8.2 產(chǎn)生-復(fù)合電流和高注入級(jí)別295
8.2.1 產(chǎn)生復(fù)合電流296
8.2.2 高級(jí)注入302
8.3 pn 結(jié)的小信號(hào)模型304
8.3.1 擴(kuò)散電阻305
8.3.2 小信號(hào)導(dǎo)納306
8.3.3 等效電路313
*8.4 電荷存儲(chǔ)與二極管瞬態(tài)314
8.4.1 關(guān)瞬態(tài)315
8.4.2 開瞬態(tài)317
*8.5 隧道二極管318
8.6 小結(jié)321
重要術(shù)語解釋322
知識(shí)點(diǎn)322
復(fù)習(xí)題323
習(xí)題323
參考文獻(xiàn)330
第 9 章 金屬半導(dǎo)體和半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)331
9.0 預(yù)習(xí)331
9.1 肖特基勢(shì)壘二極管331
9.1.1 性質(zhì)上的特征332
9.1.2 理想結(jié)的特性334
9.1.3 影響肖特基勢(shì)壘高度的
非理想因素338
9.1.4 電流-電壓關(guān)系342
9.1.5 肖特基勢(shì)壘二極管與pn結(jié)
二極管的比較345
9.2 金屬-半導(dǎo)體的歐姆接觸349
9.2.1 理想非整流接觸勢(shì)壘349
9.2.2 隧道效應(yīng)351
9.2.3 比接觸電阻352
9.3 異質(zhì)結(jié)354
9.3.1 形成異質(zhì)結(jié)的材料354
9.3.2 能帶圖354
9.3.3 二維電子氣356
*9.3.4 靜電平衡態(tài)358
*9.3.5 電流-電壓特性363
9.4 小結(jié)363
重要術(shù)語解釋364
知識(shí)點(diǎn)364
復(fù)習(xí)題365
習(xí)題365
參考文獻(xiàn)370
第 10 章 金屬-氧化物-半導(dǎo)體
?場(chǎng)效應(yīng)晶體管基礎(chǔ)371
10.0?預(yù)習(xí)371
10.1?雙端MOS結(jié)構(gòu)371
10.1.1 能帶圖372
10.1.2 耗盡層厚度376
10.1.3 面電荷密度380
10.1.4 功函數(shù)差382
10.1.5 平帶電壓385
10.1.6 閾值電壓388
10.2?電容-電壓特性394
10.2.1 理想C-V特性394
10.2.2 頻率特性399
10.2.3 固定柵氧化層電荷和
界面電荷效應(yīng)400
10.3?MOSFET基本工作原理403
10.3.1 MOSFET結(jié)構(gòu)403
10.3.2 電流-電壓關(guān)系概念404
*10.3.3 電流-電壓關(guān)系
數(shù)學(xué)推導(dǎo)410
*10.3.4 跨導(dǎo)418
10.3.5 襯底偏置效應(yīng)419
10.4?頻率限制特性422
10.4.1 小信號(hào)等效電路422
10.4.2 頻率限制因素和截止頻率425
*10.5?CMOS技術(shù)427
10.6?小結(jié)430
重要術(shù)語解釋431
知識(shí)點(diǎn)432
復(fù)習(xí)題432
習(xí)題433
參考文獻(xiàn)441
第 11 章 金屬-氧化物-半導(dǎo)體
?場(chǎng)效應(yīng)晶體管:概念的深入443
11.0?預(yù)習(xí)443
11.1?非理想效應(yīng)443
11.1.1 亞閾值電導(dǎo)444
11.1.2 溝道長(zhǎng)度調(diào)制效應(yīng)446
11.1.3 遷移率變化450
11.1.4 速度飽和452
11.1.5 彈道輸運(yùn)453
11.2?MOSFET按比例縮小理論455
11.2.1 恒定電場(chǎng)按比例縮小455
11.2.2 閾值電壓一級(jí)近似456
11.2.3 全部按比例縮小理論457
11.3?閾值電壓的修正457
11.3.1 短溝道效應(yīng)457
11.3.2 窄溝道效應(yīng)461
11.4?附加電學(xué)特性464
11.4.1 擊穿電壓464
*11.4.2 輕摻雜漏晶體管470
11.4.3 通過離子注入進(jìn)行閾值
調(diào)整472
*11.5?輻射和熱電子效應(yīng)475
11.5.1 輻射引入的氧化層電荷475
11.5.2 輻射引入的界面態(tài)478
11.5.3 熱電子充電效應(yīng)480
11.6?小結(jié)481
重要術(shù)語解釋481
知識(shí)點(diǎn)482
復(fù)習(xí)題482
習(xí)題483
參考文獻(xiàn)489
第 12 章 雙極晶體管491
12.0?預(yù)習(xí)491
12.1?雙極晶體管的工作原理491
12.1.1 基本工作原理493
12.1.2 晶體管電流的簡(jiǎn)化表達(dá)式495
12.1.3 工作模式498
12.1.4 雙極晶體管放大電路500
12.2?少子的分布501
12.2.1 正向有源模式502
12.2.2 其他工作模式508
12.3?低頻共基極電流增益509
12.3.1 有用的因素509
12.3.2 電流增益的數(shù)學(xué)表達(dá)式512
12.3.3 小結(jié)517
12.3.4 電流增益的計(jì)算517
12.4?非理想效應(yīng)522
12.4.1 基區(qū)寬度調(diào)制效應(yīng)522
12.4.2 大注入效應(yīng)524
12.4.3 發(fā)射區(qū)禁帶變窄526
12.4.4 電流集邊效應(yīng)528
*12.4.5 基區(qū)非均勻摻雜的影響530
12.4.6 擊穿電壓531
12.5?等效電路模型536
*12.5.1 Ebers-Moll模型537
12.5.2 Gummel-Poon模型540
12.5.3 H-P模型541
12.6?頻率上限545
12.6.1 延時(shí)因子545
12.6.2 晶體管截止頻率546
12.7?大信號(hào)開關(guān)549
12.7.1 開關(guān)特