本書是全息技術行業(yè)的專利分析報告。報告從該行業(yè)的專利(國內、國外)申請、授權、申請人的已有專利狀態(tài)、其他先進國家的專利狀況、同領域領先企業(yè)的專利壁壘等方面入手,充分結合相關數(shù)據,展開分析,并得出分析結果。本書是了解該行業(yè)技術發(fā)展現(xiàn)狀并預測未來走向,幫助企業(yè)做好專利預警的必備工具書。
國家知識產權局學術委員會,由國家知識產權局相關審查業(yè)務部成員及相關行業(yè)協(xié)會成員組成。每個課題組有20-30個人組成,分別進行數(shù)據收集、整理、分析、制圖、審核、統(tǒng)稿。
第1章緒論
1.1研究背景
1.2技術分解
1.3研究方法
1.3.1數(shù)據庫選用
1.3.2數(shù)據處理方式
1.3.3數(shù)據范圍
1.3.4數(shù)據質量評估
1.4相關事項和約定
第2章全息技術全球專利申請分析
2.1全息存儲
2.1.1全球專利申請
2.1.2申請趨勢分析
2.1.3申請區(qū)域分布分析
2.1.4申請人分析
2.2全息檢測
2.2.1全球專利申請分析
2.2.2專利布局國家或地區(qū)分析
2.2.3申請人分析
2.2.4申請類型、法律狀態(tài)和技術構成分析
2.3全息顯示
2.3.1全球專利申請
2.3.2申請量趨勢分析
2.3.3主要申請人
2.3.4全球被引證數(shù)專利分析
2.4全息光學元件
2.4.1全球專利態(tài)勢分析
2.4.2日本專利態(tài)勢分析
2.5全息防偽
2.5.1專利申請趨勢分析
2.5.2首次申請國家或地區(qū)分析
2.5.3申請人分析
2.5.4申請類型及法律狀態(tài)分析
2.6小結
第3章全息技術中國專利申請分析
3.1全息存儲
3.1.1專利申請趨勢分析
3.1.2申請人分析
3.1.3申請類型和法律狀態(tài)分析
3.1.4中國國內申請人分析
3.2全息檢測
3.2.1專利申請趨勢分析
3.2.2區(qū)域申請分析
3.2.3國內和國外申請人分析
3.2.4申請類型和法律狀態(tài)分析
3.2.5中國專利續(xù)費/放棄趨勢
3.3全息顯示
3.3.1專利申請趨勢分析
3.3.2主要申請人中國申請法律狀態(tài)
3.4全息光學元件
3.4.1發(fā)展趨勢分析
3.4.2專利類型
3.4.3法律狀態(tài)
3.4.4申請人區(qū)域分析
3.4.5主要申請人分析
3.4.6主要發(fā)明人分析
3.5全息防偽
3.5.1專利申請分析
3.5.2國內省市專利分析
3.5.3申請人分析
3.5.4申請類型及法律狀態(tài)分析
3.5.5技術分支分析
3.6小結
第4章全息存儲重點技術分析
4.1概況
4.1.1技術背景
4.1.2全息存儲概念和產業(yè)概況
4.1.3全息存儲技術發(fā)展歷程
4.2基礎專利技術
4.2.1離軸光路
4.2.2同軸光路
4.2.3微全息技術
4.3重點專利介紹
4.3.1光源
4.3.2記錄結構
4.3.3中間光學元件
4.3.4伺服控制
4.3.5存儲材料
4.3.6數(shù)據處理
4.3.7復制方法
4.3.8盒體結構
4.4ECMA標準
4.5小結
第5章全息檢測重點技術分析
5.1技術概況
5.2全息顯微
5.2.1總體分析
5.2.2技術發(fā)展路線
5.2.3技術功效分析
5.2.4早期基礎性專利分析
5.2.5重點專利
5.3小結
第6章全息顯示重點技術分析
6.1全息概念的誤用-舞臺表演、AR/MR、其他
6.2三維全息顯示技術
6.3全息顯示的演進
6.4重點專利介紹
6.4.1計算全息
6.4.2光源
6.4.3光路設計
6.4.4追蹤元件設計
6.4.5SLM設計
6.4.6針對特殊應用設計
6.5小結
第7章全息光學元件重點技術分析
7.1技術概況
7.1.1全息光學元件與傳統(tǒng)光學元件的區(qū)別和聯(lián)系
7.1.2全息光學元件的主要分類
7.1.3全息光學元件的理論發(fā)展脈絡
7.1.4全息光學元件的制作材料
7.2中國專利技術分析
7.2.1功效分析
7.2.2中國重點專利
7.3日本專利技術分析
7.3.1技術分支分析
7.3.2日本重點專利
7.4全球重點專利分析
7.5小結
第8章全息防偽重點技術分析
8.1概念
8.2技術發(fā)展
8.2.1第一代激光模壓全息圖像防偽技術
8.2.2第二代改進型激光全息圖像防偽技術
8.2.3第三代加密全息圖像防偽技術
8.2.4第四代激光全息防偽技術
8.3重點專利
8.3.1紙幣或證件防偽
8.3.2防偽紙或防偽標識
8.3.3防偽設備及相關技術改進
8.3.4微全息圖的結構
8.4小結
第9章主要申請人技術分析
9.1全息存儲
9.1.1INPHASE
9.1.2OPTWARE
9.1.3通用電氣
9.1.4索尼
9.1.5日立
9.1.6青島泰谷光電工程
9.2全息顯示
9.2.1SEEREAL
9.2.2LG
9.2.3三星
9.2.4京東方
9.2.5小結
9.3全息防偽
9.3.1中國印鈔造幣總公司
9.3.2泰寶集團
9.3.3湖北聯(lián)合天誠
9.3.4大日本印刷
9.3.5凸版印刷
9.3.6德國捷德
第10章主要申請人的專利申請和運營策略
10.1全息存儲
10.1.1INPHASE
10.1.2OPTWARE
10.1.3通用電氣
10.1.4索尼
10.1.5日立
10.2全息防偽
10.2.1專利質押分析
10.2.2專利許可分析
第11章結論與建議
附錄申請人名稱約定表
圖索引
表索引