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專利挖掘(第2版) 讀者對(duì)象:(1)企業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)主管、研發(fā)主管,企業(yè)專利管理人員,企業(yè)研發(fā)人員;(2)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理機(jī)構(gòu)專利代理師、專利咨詢師、專利管理師、專利工程師;(3)專利律師;(4)各級(jí)政府專利管理部門相關(guān)人員、專利分析課題研究人員;(5)相關(guān)專業(yè)的大學(xué)生等。
本書(shū)系統(tǒng)梳理了專利挖掘的理論和常用工具,首次通過(guò)專利挖掘的主要場(chǎng)景(如基于研發(fā)目的和創(chuàng)新點(diǎn)的專利挖掘、應(yīng)對(duì)競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手核心專利的專利挖掘、規(guī)避設(shè)計(jì)的專利挖掘等)對(duì)專利挖掘進(jìn)行逐一闡述。此外,還分別從主要技術(shù)領(lǐng)域介紹了專利挖掘的手段,并通過(guò)典型案例講解、分析了專利挖掘的具體過(guò)程。讀者對(duì)象:企業(yè)研發(fā)人員、專利工程師、專利代理師和專利咨詢師、相關(guān)專業(yè)師生。
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