《光學光刻和極紫外光刻》是一本最新的光刻技術專著，內容涉及該領域的各個重要方面。在介紹光刻技術應用上，涵蓋了全面又豐富的內容；在論述光刻技術的物理機制和數學模型時，采用了完整而不繁瑣的方法，增加了可讀性。本書在系統(tǒng)地闡述了光學光刻技術的基本內容后，還專門開辟章節(jié)，介紹了最先進的極紫外光刻技術的特點和難點，揭示了極紫外光刻的技術奧秘。本書具有全面、完整、翔實和新穎的特點，它凝聚了作者三十多年光刻領域科研和教學的精華。