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圖說集成電路制造工藝

圖說集成電路制造工藝

定  價:99 元

        

  • 作者:孫洪文編著
  • 出版時間:2023/8/1
  • ISBN:9787122432902
  • 出 版 社:化學工業(yè)出版社
  • 中圖法分類:TN405-64 
  • 頁碼:271
  • 紙張:
  • 版次:1
  • 開本:24cm
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讀者對象:本書適用于集成電路行業(yè)人員、對集成電路及前沿科技感興趣的讀者

本書首先介紹了半導體行業(yè)的發(fā)展史;接著將整個芯片制造流程分為“加”“減”“乘”“除”四類,用圖說的形式,講解了氧化、化學氣相淀積、物理法沉積薄膜、擴散、離子注入、清洗硅片、刻蝕、化學機械拋光、離子注入退火、回流、制備合金、光刻等核心工藝,同時對半導體材料、凈化間、化學試劑、氣體、半導體設備、掩膜版等必需條件也做了介紹。
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