本書對(duì)微納制造技術(shù)的各個(gè)領(lǐng)域都給出了一個(gè)全面透徹的介紹, 覆蓋了集成電路制造所涉及的所有基本單項(xiàng)工藝, 包括光刻、等離子體和反應(yīng)離子刻蝕、離子注入、擴(kuò)散、氧化、蒸發(fā)、氣相外延生長、濺射和化學(xué)氣相淀積等。對(duì)每一種單項(xiàng)工藝, 不僅介紹了它的物理和化學(xué)原理, 還描述了用于集成電路制造的工藝設(shè)備。本書新增了制作納米集成電路及其他半導(dǎo)體器件所需的各種基本單項(xiàng)工藝, 還介紹了22 nm 的FinFET 器件、氮化鎵LED 及薄膜太陽能電池、新型微流體器件的制造工藝流程。